序號

設備名稱

技術指標

單位

數量

預算金額（萬元）

是否接受進口產品

1

石墨烯專用CVD系統

1、爐體結構：高純 Al2O3保溫材料，保證了爐膛有極好的溫度均勻性。
*內爐膛表面涂有進口的1760度高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命
*爐子底部的冷卻風扇保證了熱量正常對外釋放.
*密封法蘭系統全不銹鋼制作。
2、電源:208-240VAC, 50/60Hz, 單相, 2.5KW ( 20A 保險絲) 
3、加熱溫度: 最高溫度: 1100°C
 連續溫度: 1000°C
4、加熱區: 加熱區長度: 440mm
 恒溫區長度: 120mm (±1°C) @400~1100°C
 選擇: 雙溫區爐可獲得t 240mm 的恒溫區
5、石英管: 外管: OD100 x ID 96 x 1400, mm
 內管: OD80 x ID 75 x 1800 mm 一對 SS304不銹鋼法蘭，通過用兩個高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空。
爐子底部裝有一對滑軌
爐子可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻。
為了得到較快的加熱速度，可以先將爐子預熱，然后滑到放置樣品的位置。
6、混氣系統：4路精密質子流量計：數字顯示、氣體流量自動控制.
 MFC 1范圍: 0~100 sccm
 MFC 2范圍: 0~200 sccm
 MFC 3范圍: 0~200 sccm
 MFC 4范圍: 0~500 sccm
 氣路: 4 路
 流量精度: 0.2%
 進氣和出氣接口: 1/4" 卡套
 一個混氣罐.
 每路氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制。
 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量.
7、真空泵： 安裝在移動架底部的機械泵，真空度達 10-3 Torr.
 真空泵與手動擋板閥之間用KF25 快接與不銹鋼波紋管連接 .
 數字真空表安裝在一端的法蘭上.
8、極限真空度: 10^-2 torr (配機械泵)
9、爐體: 550 x 380 x 520,移動架: 600x600x597
一年質保期 ,CE 認證
10、耗材：生長石墨烯的銅箔5kg寬150mm，厚 25um，銅箔5kg寬150mm，厚 9um，鎳箔 (20m length x 150mm width x 25um thickness)，甲烷一瓶(含鋼瓶)，氬氣一瓶(含鋼瓶)

套

1

11.3

否

2

全方位行星式球磨機

*1.主輪傳動方式：皮帶傳動（進口皮帶）；

*2.行星輪傳動方式：增強型含油尼龍齒輪傳動；

3.工作方式：兩個或四個球磨罐同時工作；

4.最大裝樣量：球磨罐容積的三分之二；

5.進料粒度：土壤料≤10mm，其他料≤3mm；

*6.出料粒度：最小可達0.1um；

7.轉速比（公轉：自轉）：1：2；

8.轉速(自轉)：0～580轉/分；

*9.運行模式：球磨機由變頻器控制共有五種運行模式：

  9.1、單向運行，不定時停機；

  9.2、單向運行，定時停機；

  9.3、正、反向交替運行，定時停機；

  9.4、單向間隔運行，定時停機；

  9.5、正、反向交替間隔運行，定時停機；

10.調速方式：變頻調速0～50Hz，分辨率1Hz，本機限速0～45Hz；

*11.控制方式：變頻無級調速、程控控制，隨時手動調節、1～999分鐘定時運行，1～300分鐘定時正反轉，1～999分鐘定時間隔運行，0～100次重啟動運行；

12.功率：0.75kw；

13.最大連續工作時間（滿負荷）：48小時；

14.外形設計：控制面板在球磨系統安全罩正上方，便于操作，結構緊湊，美觀大方；

15.配件：500ml瑪瑙球磨罐一套4個（配瑪瑙球）；500ml陶瓷球磨罐一套4個（配陶瓷球）；500ml尼龍球磨罐一套4個（配氧化鋯球）；500ml不銹鋼球磨罐一套4個（配不銹鋼球）；500ml聚四氟乙烯球磨罐一套4個（配聚四氟乙烯球）；100ml瑪瑙球磨罐4個（配瑪瑙球）帶真空套；50ml瑪瑙球磨罐4個（配瑪瑙球）帶真空套；

*16.穩定性要求：球磨機國內知名品牌口碑良好，性能穩定，使用壽命長；

*17.需提供廠家資料及授權，以便售后維修服務；

18.標注“*”為實質性指標必須滿足。

套

1

6.50

否

3

等離子增強化學沉積系統

一、真空腔室
*1. 極限真空度：≤6.67x10-6 Pa (經烘烤除氣后)；
 2. 系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系統從大氣開始抽氣，40分鐘可達到 6.6x10-4 Pa；停泵關機12小時后真空度：≤5 Pa；
 3. 工作真空度：1～1000Pa；系統主要由真空反應室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成；
 4. 圓筒型真空室尺寸：Ф400mm x300mm，電動上掀蓋結構，也可帶動中間殼體升起，上蓋具有水冷結構，中間殼體采用雙層夾壁水冷結構，選用不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行電解拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封；
 5. 進氣勻氣盤尺寸：Φ120mm，可使氣流均勻進入反應室； 耦合電極引入結構；手動進氣截止閥門：1臺；內外屏蔽罩，避免干擾其它儀器；加熱鎢絲：5根；
 6. 燈絲表面最高溫度：2000°C；安裝在基片與勻氣盤之間，可拆卸；熱絲與基片可在10～20mm之間調節；熱絲可加直流電源：80V，60A；
*7. 基片尺寸：可放置100mm基片；*基片加熱最高溫度 1000°C±1°C，由熱電偶閉環反饋控制； 
*8. 控制系統：1套。
二、氣路系統
   氣瓶柜2套，氣路柜一套，氣體處理系統，報警系統
1．氣瓶柜系統：
*1.1：硅烷、氫氣雙瓶柜1套 ，含閥門、管路、報警系統
*1.2：硼烷、磷烷雙瓶柜1套，含閥門、管路、報警系統
2．氣體處理：
2.1具有酸堿噴淋功能
2.2具有燃燒功能
2.3具有報警功能
2.4可處理氣體量：10 l/s
2.5加熱溫度800 ℃4
*3．控制系統1套。

套

1

67.5

否

4

金屬離子源

主要由陰極及其推進系統、觸發電極、陽極、等離子體擴散筒、三電極引出系統、高壓絕緣柱和外屏蔽室等組成。離子源主要性能指標如下：² 引出柵口徑：Φ100mm；
引出電壓：10～80kV連續可調；
離子束流：1～8 mA連續可調；
陰極弧脈沖頻率：0～50Hz可調；
束斑直徑≥Φ100mm；
工作真空度：優于 1×10-2Pa；
適用靶材：所有的導電靶材如金屬靶材、合金靶材及半導體靶材等；
結構設計便于陰極材更換；
結構設計便于柵網更換。

套

1

25

否